ULVAC 濺射設備 RFS-201
特點 絕緣,金屬,半導體材料的濺射設備。 主泵使用油擴散泵。 可以在Φ80mm×1陰極上單層成膜。 通過傳統(tǒng)濺射,濺射速度可達到20nm/min(SiO2)
規(guī)格
效用
[標準]
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